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Growth Features of 3C-SiC/Si Films Fabricated by HTCVD
HTCVD制备3C-SiC/Si薄膜的生长特性
相关领域
硅
材料科学
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化学气相沉积
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碳纤维
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结晶学
化学工程
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化学
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其它 |
期刊:Optical Memory and Neural Networks 作者:Dmitry Lebedev; Sergey Nefedov; Daria Shishkina; I A Shishkin; В. И. Чепурнов; et al 出版日期:2023-11-01 |
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