标题 |
Examination of nonideal film growth in batch atomic layer deposition for plasma-resistant coatings
耐等离子体涂层批量原子层沉积中非理想薄膜生长的研究
相关领域
原子层沉积
等离子体
图层(电子)
沉积(地质)
材料科学
逐层
化学工程
纳米技术
物理
地质学
工程类
沉积物
量子力学
古生物学
|
网址 | |
DOI | |
求助人 | |
下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|