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 In-depth study of silicon-oxide thin films: Effect of N2O/SiH4 gas mixture 氧化硅薄膜的深入研究：N2O/SiH4气体混合物的影响
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硅
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期刊：AIP conference proceedings 作者：Pavel Calta; P. Šutta; Rostislav Medlín; J. Minář 出版日期：2024-01-01 |
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