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 Noble gas effect on ACL etching selectivity to SiO2 films 稀有气体对二氧化硅薄膜ACL刻蚀选择性的影响
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期刊：Plasma Processes and Polymers 作者：Gilyoung Choi; Alexander Efremov; Hye Jun Son; Kwang-Ho Kwon 出版日期：2023-06-08 |
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