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 Challenges and Solutions of Replacement Metal Gate Patterning to Enable Gate-all-Around Device Scaling 替代金属栅极图案化的挑战和解决方案，以实现栅极全方位器件扩展
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期刊：Solid State Phenomena 作者：Yusuke Oniki; L.-A. Ragnarsson; Hideaki Iino; Daire Cott; Boon Teik Chan; et al 出版日期：2021-02-01 |
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