| 标题 |
 Comparative study of Ta, TaN and Ta/TaN bi-layer barriers for Cu-ultra low-k porous polymer integration Cu-超低k多孔聚合物集成用Ta、TaN和Ta/TaN双层势垒的比较研究
相关领域
热稳定性
材料科学
阻挡层
无定形固体
钽
化学工程
图层（电子）
复合材料
聚合物
扩散阻挡层
冶金
结晶学
化学
工程类
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Thin Solid Films 作者：L.Y. Yang; Dao Hua Zhang; C.Y. Li; P.D. Foo 出版日期：2004-09-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
Ganlou
彭于彦祖
lalala
36456657
杳鸢
良辰
123
归尘
Billy
shinysparrow
嗯哼
都是
科研小呆瓜
mhl11
lwk205
asdxsweef
YifanWang
饱满绝施
鲤鱼鸽子
8R60d8
皖公网安备34019202002308
