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 PSCAR optimization to reduce EUV resist roughness with sensitization using Resist Formulation Optimizer (RFO) (Conference Presentation) 使用抗蚀剂配方优化器(RFO)通过敏化降低EUV抗蚀剂粗糙度的PSCAR优化（会议演示）
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期刊： 作者：Seiji Nagahara; Cong Que Dinh; Gosuke Shiraishi; Yuya Kamei; Kathleen Nafus; et al 出版日期：2019-03-25 |
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