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Achieving high relative density and low resistivity in indium tin oxide targets via Bi2O3-CeO2 additive
Bi2O3-CeO2添加剂在氧化铟锡靶中实现高相对密度和低电阻率
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网址
https://doi.org/10.1016/j.jallcom.2023.171998
DOI
10.1016/j.jallcom.2023.171998 doi
其它 期刊：Journal of Alloys and Compounds
作者：Ting Liu; Zhucheng Jiang; Jiaxiang Liu
出版日期：2023-09-05
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