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 Pulsed laser deposition of non-stoichiometric silicon nitride (SiNx) thin films 非化学计量氮化硅（SiNx）薄膜的脉冲激光沉积
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期刊：Applied Physics A 作者：J.M. Lackner; Wolfgang Waldhauser; R. Ebner; Michael Beutl; Georg Jakopič; et al 出版日期：2004-09-01 |
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