Advanced atomic layer deposition: metal oxide thin film growth using the discrete feeding method

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标题	Advanced atomic layer deposition: metal oxide thin film growth using the discrete feeding method 先进原子层沉积：使用离散加料法生长金属氧化物薄膜相关领域原子层沉积材料科学图层（电子）沉积（地质）金属氧化物杂质薄膜化学工程冶金纳米技术有机化学化学古生物学沉积物工程类生物
网址	https://doi.org/10.1039/d2tc03485a
DOI	10.1039/d2tc03485a doi
其它	期刊：Journal of Materials Chemistry C 作者：Jae Chan Park; Chang Ik Choi; Sang‐Gil Lee; Seung Jo Yoo; Ji‐Hyun Lee; et al 出版日期：2023-01-01
求助人	LX 在 2024-09-10 09:30:44 发布自澳大利亚，悬赏 10 积分
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