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Comparing single-, double- and triple-layer anti-reflection coatings for ultra-low reflectance in silicon heterojunction solar cells

材料科学 光电子学 氧化铟锡 反射(计算机编程) 异质结 防反射涂料 光伏系统 图层(电子) 反射率 晶体硅 太阳能电池 电流密度 光学 纳米技术 物理 计算机科学 电气工程 程序设计语言 工程类 量子力学
作者
Bin Hao,Yimeng Song,Conghui Jiang,Jiufang Han,Yang Jiang,Zhen Deng,Wenxin Wang,Haiqiang Jia,Hong Chen,Chunhua Du
出处
期刊:Japanese Journal of Applied Physics [Institute of Physics]
卷期号:62 (6): 061002-061002 被引量:4
标识
DOI:10.35848/1347-4065/acd7b7
摘要

Abstract To increase the efficiency of silicon heterojunction (SHJ) solar cells (SCs), it is paramount to enhance the utilization of sunlight by light management. In this study, the dependences of weighted reflectance and thus generation current ( J G ) for SHJ SCs on different anti-reflective structures are displayed by OPAL2 simulation tool. According to this, SiN x and SiO 2 films are deposited on front of indium tin oxide (ITO) as multilayer anti-reflection coatings (ARCs). It is demonstrated experimentally that the photovoltaic performance of SHJ SCs can be significantly improved by multilayer ARCs. Especially, with 90/21/40 nm SiO 2 /SiN x /ITO anti-reflective layer structure, the reflectance of SHJ SC is reduced as low as 0.94%, and the current density is shown to be increased by 4.34% compared to the common SCs. This work shows a promising and cost-effective way to achieve higher light utilization and thus promotes photovoltaic characteristics for SHJ SCs.
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