The TFT A New Thin-Film Transistor

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作者
Paul J. Weimer
出处
期刊:Proceedings of the IRE [Institute of Electrical and Electronics Engineers]
卷期号:50 (6): 1462-1469 被引量:280
标识
DOI:10.1109/jrproc.1962.288190
摘要

A thin-film transistor, TFT, fabricated by evaporation of all components on to an insulating substrate has been developed. Operation is based upon the control of injected majority carriers in a wide-band-gap semiconductor by means of an insulated control gate. Experimental units using microcrystalline layers of cadmium sulfide have yielded voltage amplification factors greater than 100, transconductances greater than 10,000 , μmho, input impedances greater than 10 6 Ω shunted by 50 pf and gain-bandwidth products greater than 10 Mc. Switching speeds of less than 0.1 μsec have been observed. Simple evaporated thin-film circuits incorporating the TFT have been built. Direct coupling between stages is permitted since the insulated gate electrode can be biased positively as well as negatively without drawing appreciable gate current. Modified forms of the TFT have been built for use as a flip-flop, an AND gate and a NOR gate in computer applications.
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