Study on the single-event burnout mechanism of p-GaN gate AlGaN/GaN HEMTs

材料科学 电场 光电子学 电子 离子 氮化镓 GSM演进的增强数据速率 扫描电子显微镜 纳米技术 计算机科学 化学 物理 复合材料 电信 图层(电子) 量子力学 有机化学
作者
Xiaohu Wang,Xuefeng Zheng,Danmei Lin,Hao Zhang,Yanrong Cao,Ling Lv,Yingzhe Wang,Peipei Hu,Jie Liu,Xiaohua Ma,Yue Hao
出处
期刊:Applied Physics Letters [American Institute of Physics]
卷期号:124 (17) 被引量:3
标识
DOI:10.1063/5.0190614
摘要

In this work, the single-event burnout (SEB) mechanism of p-GaN gate AlGaN/GaN HEMTs has been studied systematically. The irradiation experiment was carried out based on Ta ions with high linear energy transfer of 75.4 MeV/(mg/cm2), a standard criterion for commercial space applications. It is clearly observed that both the drain current and gate current increase during the irradiation. With the increasing drain bias, the device burns out eventually. Technology computer-aided design simulation was used to explore the possible burnout mechanism. The local high electric field peak induced by the electron and hole redistribution was proposed to explain the permanent damage. When heavy ions impact the device, electron–hole pairs are formed. With the aid of a horizontal electric field across the channel, electrons and holes move toward the drain and gate, respectively. The accumulation of electrons and holes around the drain edge and gate edge induces the local high electric field, which is even higher than the intrinsic breakdown electric field of GaN and AlGaN. The scanning electron microscope results verified the proposed SEB mechanism. This research offers significant theoretical and experimental insights for evaluating the reliability of GaN power devices against high-energy single-event burnout in aerospace applications.
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