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Chemi-Mechanical Polishing of On-Axis Semi-Insulating SiC Substrates

材料科学 抛光 复合材料 化学机械平面化 工程物理 机械工程 冶金 工程类
作者
V.D. Heydemann,W.J. Everson,Rick D. Gamble,David Snyder,Marek Skowroński
出处
期刊：Materials Science Forum 日期：2004-06-15 卷期号：457-460: 805-808 被引量：38
标识
DOI：10.4028/www.scientific.net/msf.457-460.805
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