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Large enhanced perpendicular magnetic anisotropy in CoFeB/MgO system with the typical Ta buffer replaced by an Hf layer

材料科学 图层(电子) 无定形固体 磁各向异性 溅射 凝聚态物理 垂直的 磁化 各向异性 溅射沉积 隧道磁电阻 表面粗糙度 缓冲器(光纤) 薄膜 复合材料 纳米技术 结晶学 冶金 磁场 光学 物理 几何学 数学 量子力学 电信 化学 计算机科学
作者
Tao Liu,Jianwang Cai,Li Sun
出处
期刊:AIP Advances [American Institute of Physics]
卷期号:2 (3) 被引量:161
标识
DOI:10.1063/1.4748337
摘要

By systematically comparing the magnetic properties of the Ta/CoFeB/Ta and MgO/CoFeB/MgO structures with and without a submonolayer of MgO, Ta, V, Nb, Hf and W inserted in the middle of the CoFeB layer, we have proved that the observed perpendicular magnetic anisotropy (PMA) in Ta/CoFeB/MgO sandwiches is solely originated from the CoFeB/MgO interface with the Ta buffer acting to enhance the CoFeB/MgO interface anisotropy significantly. Moreover, replacing Ta with Hf causes the CoFeB/MgO interfacial PMA further enhanced by 35%, and the CoFeB layer with perpendicular magnetization has a much larger critical thickness accordingly, leaving a wider thickness margin for the CoFeB/MgO-based perpendicular magnetic tunnel junction optimization. Also the sputter deposited thin Hf films are amorphous with low surface roughness. These results will ensure the Hf/CoFeB/MgO more promising material system for PMA device development.

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