Clamping enables enhanced electromechanical responses in antiferroelectric thin films

夹紧 材料科学 薄膜 反铁电性 智能材料 光电子学 纳米技术 铁电性 机械工程 电介质 工程类
作者
Hao Pan,Menglin Zhu,Ella Banyas,Liam P. Shaw,Megha Acharya,Hongrui Zhang,Jiyeob Kim,Xianzhe Chen,Xiaoxi Huang,Michael Xu,Isaac Harris,Zishen Tian,Francesco Ricci,Brendan Hanrahan,Jonathan E. Spanier,Geoffroy Hautier,James M. LeBeau,Jeffrey B. Neaton,Lane W. Martin
出处
期刊:Nature Materials [Springer Nature]
卷期号:23 (7): 944-950 被引量:2
标识
DOI:10.1038/s41563-024-01907-y
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