The ALD Films of Al2O3, SiNx, and SiON as Passivation Coatings in AlGaN/GaN HEMT

材料科学 钝化 原子层沉积 光电子学 异质结 电介质 带隙 氮化物 宽禁带半导体 图层(电子) 纳米技术
作者
К. Л. Енишерлова,Э. М. Темпер,Yu. V. Kolkovsky,Б. К. Медведев,С. А. Капилин
出处
期刊:Russian Microelectronics [Springer Nature]
卷期号:49 (8): 603-611 被引量:4
标识
DOI:10.1134/s106373972008003x
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