Low-temperature 3D printing of transparent silica glass microstructures

材料科学 聚二甲基硅氧烷 微观结构 紫外线 石英玻璃 热的 3D打印 千分尺 复合材料 纳米技术 化学工程 光电子学 光学 物理 工程类 气象学
作者
Mingzhe Li,Liang Yue,Arunkumar Chitteth Rajan,Luxia Yu,Harikrishna Sahu,S. Macrae Montgomery,Rampi Ramprasad,H. Jerry Qi
出处
期刊:Science Advances [American Association for the Advancement of Science]
卷期号:9 (40) 被引量:33
标识
DOI:10.1126/sciadv.adi2958
摘要

Transparent silica glass is one of the most essential materials used in society and industry, owing to its exceptional optical, thermal, and chemical properties. However, glass is extremely difficult to shape, especially into complex and miniaturized structures. Recent advances in three-dimensional (3D) printing have allowed for the creation of glass structures, but these methods involve time-consuming and high-temperature processes. Here, we report a photochemistry-based strategy for making glass structures of micrometer size under mild conditions. Our technique uses a photocurable polydimethylsiloxane resin that is 3D printed into complex structures and converted to silica glass via deep ultraviolet (DUV) irradiation in an ozone environment. The unique DUV-ozone conversion process for silica microstructures is low temperature (~220°C) and fast (<5 hours). The printed silica glass is highly transparent with smooth surface, comparable to commercial fused silica glass. This work enables the creation of arbitrary structures in silica glass through photochemistry and opens opportunities in unexplored territories for glass processing techniques.
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