All-silicon multi-band TM-pass polarizer on a 220 nm SOI enabled by multiplexing grating regimes

绝缘体上的硅 光学 消光比 偏振器 材料科学 插入损耗 光电子学 栅栏 带宽(计算) 硅光子学 波长 物理 电信 双折射 计算机科学
作者
Jinsong Zhang,Luhua Xu,Mao Deng,Yannick D’Mello,Weijia Li,Stéphane Lessard,David V. Plant
出处
期刊:Optics Express [The Optical Society]
卷期号:30 (1): 326-326 被引量:13
标识
DOI:10.1364/oe.447435
摘要

We propose an all-silicon design of a multi-band transverse-magnetic-pass (TM-pass) polarizer. The device is based on one-dimensional gratings that work under different regimes that depend on the polarization. With a tapered structure, it is revealed that the operation bandwidth can be extended by multiplexing the diffraction in O-band and the reflection in S-, C-, and L-bands for the transverse-electric (TE) mode. By simulation, we achieve a 343 nm device bandwidth with insertion loss (IL) < 0.4 dB and polarization extinction ratio (PER) > 20 dB. The operation wavelength range covers commonly-used optical telecommunication bands including the O-, S-, C-, and L- bands. Experimental results also show IL < 1.6 dB and PER > 20 dB from 1265 nm to 1360 nm corresponding to the O-band, and from 1500 nm to 1617 nm that corresponds to the C-band. The device is a single-etched design on the standard 220 nm silicon-on-insulator (SOI) with silicon oxide cladding. Such a simple and compatible design paves the way for developing practical multi-band silicon photonic integrated circuits.
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