One-Step Sputtered Chromium/ Chromium Nitride Thin Films for Enhanced Performance Supercapacitor Electrodes

电极 氮化铬 超级电容器 材料科学 氮化物 冶金 薄膜 光电子学 纳米技术 化学 电容 图层(电子) 物理化学
作者
How-Wei Ke,Yaw‐Shyan Fu,Zong–Han Wu,Yu‐Chun Hsueh,Ian Y.Y. Bu,Tzung‐Fang Guo
标识
DOI:10.2139/ssrn.4446437
摘要

Efficient energy storage has become an important issue. Supercapacitors with high stability and instantaneous high-power output for energy storage systems have attracted research attention. In this study, we demonstrate the possibility of applying Cr:CrN thin films to electrostatic double-layer capacitor (EDLC) electrodes. Chromium electrodes are nitrided via sputtering, giving the chromium layers the characteristics of a pseudocapacitive electrode. An EDLC structure is adopted, making it a hybrid capacitor with both electrostatic and electrochemical properties. The experimental results show that EDLCs with Cr:CrN thin film electrodes have excellent properties (e.g., fast charging, high current density tolerance, and low cost). Cr:CrN thin films thus have great potential as EDLC electrodes.

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