Improvement of Ferroelectricity and Fatigue Property of Thicker HfxZr1−XO2/ZrO2 Bi-layer

铁电性 材料科学 正交晶系 图层(电子) 相(物质) 分析化学(期刊) 极化(电化学) 金属 电介质 结晶学 光电子学 化学 晶体结构 纳米技术 物理化学 有机化学 冶金 色谱法
作者
Takashi Onaya,Toshihide Nabatame,Mari Inoue,Yong Chan Jung,Heber Hernandez-Arriaga,Jaidah Mohan,Harrison Sejoon Kim,Naomi Sawamoto,Takahiro Nagata,Jiyoung Kim,Atsushi Ogura
出处
期刊:ECS transactions [The Electrochemical Society]
卷期号:98 (3): 63-70 被引量:6
标识
DOI:10.1149/09803.0063ecst
摘要

We studied the ferroelectricity of the metal–ferroelectric–metal capacitors with a Hf x Zr 1−x O 2 (10 nm) (HZO) single layer, and Hf x Zr 1−x O 2 (10 nm)/ZrO 2 (10 nm) (HZO/ZO) and Hf x Zr 1−x O 2 (10 nm)/HfO 2 (10 nm) (HZO/HO) bi-layers. HZO/ZO and HZO exhibited high remanent polarization (2 P r = P r + − P r − ) of 13 and 12 µC/cm 2 , respectively, compared to HZO/HO (0.5 µC/cm 2 ) after 10 4 wake-up cycles. This is due to the difference of the amount of ferroelectric orthorhombic phase. We found that the breakdown voltage of HZO/ZO was approximately 1.5 times higher than that of HZO while maintaining a high 2 P r value. Moreover, HZO/ZO kept 1.4 times higher 2 P r value than HZO after 10 6 switching cycles because the phase transformation from anti-ferroelectric to ferroelectric phase of ZrO 2 layer in HZO/ZO could occur during field cycling. Therefore, HZO/ZO bi-layer using the combination of HZO and ZrO 2 layers is one of the promising ferroelectric layer for future ferroelectric devices application.
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