Identification of dislocations in 4H-SiC epitaxial layers and substrates using photoluminescence imaging

光致发光 材料科学 外延 位错 基面 晶体缺陷 红外线的 GSM演进的增强数据速率 杂质 结晶学 光电子学 光学 凝聚态物理 纳米技术 化学 物理 复合材料 图层(电子) 电信 有机化学 计算机科学
作者
Chihiro Kawahara,Jun Suda,Tsunenobu Kimoto
出处
期刊:Japanese Journal of Applied Physics 卷期号:53 (2): 020304-020304 被引量:29
标识
DOI:10.7567/jjap.53.020304
摘要

Dislocations in n- and p-type substrates as well as in epitaxial layers (epilayers) were clearly identified using a photoluminescence (PL) imaging technique. Dislocations in epilayers show large/small bright spots or lines in infrared PL images, which correspond to threading screw/edge dislocations (TSDs/TEDs) or basal plane dislocations (BPDs), respectively. In contrast, dislocations in substrates exhibit large/small dark spots or dark lines in infrared PL images, corresponding to TSDs/TEDs or BPDs, respectively. These different features (bright/dark contrast) of dislocations may originate from the different densities of point defects or impurities.
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