Multiple substrate microwave plasma-assisted chemical vapor deposition single crystal diamond synthesis

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作者
J. Asmussen,T.A. Grotjohn,Thomas Schuelke,Michael Becker,M.K. Yaran,David J. King,Sebastian Wicklein,D.K. Reinhard
出处
期刊:Applied Physics Letters [American Institute of Physics]
卷期号:93 (3) 被引量:45
标识
DOI:10.1063/1.2961016
摘要

A multiple substrate, microwave plasma-assisted chemical vapor deposition synthesis process for single crystal diamond (SCD) is demonstrated using a 915MHz reactor. Diamond synthesis was performed using input chemistries of 6–8% of CH4∕H2, microwave input powers of 10–11.5kW, substrate temperatures of 1100–1200°C, and pressures of 110–135Torr. The simultaneous synthesis of SCD over 70 diamond seeds yielded good quality SCD with deposition rates of 14–21μm∕h. Multiple deposition runs totaling 145h of deposition time added 1.8–2.5mm of diamond material to each of the 70 seed crystals.
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