Boron nitride substrates for high mobility chemical vapor deposited graphene

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作者
Will Gannett,William Regan,Kenji Watanabe,Takashi Taniguchi,Michael F. Crommie,Alex Zettl
出处
期刊:Applied Physics Letters [American Institute of Physics]
卷期号:98 (24) 被引量:375
标识
DOI:10.1063/1.3599708
摘要

Chemical vapor deposited (CVD) graphene is often presented as a scalable solution to graphene device fabrication, but to date such graphene has exhibited lower mobility than that produced by exfoliation. Using a boron nitride underlayer, we achieve mobilities as high as 37 000 cm2/V s, an order of magnitude higher than commonly reported for CVD graphene and better than most exfoliated graphene. This result demonstrates that the barrier to scalable, high mobility CVD graphene is not the growth technique but rather the choice of a substrate that minimizes carrier scattering.
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