Analysis of carrier recombination coefficients of 3C- and 6H-SiC: Insights into recombination mechanisms in stacking faults of 4H-SiC

堆积 重组 材料科学 叠加断层 光电子学 降级(电信) 宽禁带半导体 电子工程 化学 基因 工程类 生物化学 有机化学
作者
Kazuhiro Tanaka,Masashi Kato
出处
期刊:AIP Advances [American Institute of Physics]
卷期号:13 (8) 被引量:10
标识
DOI:10.1063/5.0157696
摘要

In recent years, 4H-SiC power devices have been widely employed in power electronic systems owing to their superior performance to Si power devices. However, stacking faults in 4H-SiC can degrade the device performance. Stacking faults can be considered as polytype inclusions in 4H-SiC. Carrier recombination in stacking faults is considered a cause for performance degradation. Understanding carrier recombination in different polytypes other than 4H-SiC can be helpful in understanding the mechanism of performance degradation due to stacking faults in 4H-SiC. Therefore, in this study, we characterized the recombination coefficients of 3C- and 6H-SiC and compared them with those of 4H-SiC using the time-resolved free-carrier absorption measurement method. Recombination at the stacking faults in 4H-SiC cannot be considered as the intrinsic recombination of inclusions of other polytypes.
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