Formation of new crystal faces on TiO2 particles by treatment with aqueous HF solution or hot sulfuric acid

氢氟酸 锐钛矿 金红石 硫酸 水溶液 化学 Crystal(编程语言) 无机化学 化学工程 光催化 催化作用 有机化学 计算机科学 程序设计语言 工程类
作者
Taketo Taguchi,Yui Saito,Koji Sarukawa,Teruhisa Ohno,Michio Matsumura
出处
期刊:New Journal of Chemistry [The Royal Society of Chemistry]
卷期号:27 (9): 1304-1304 被引量:88
标识
DOI:10.1039/b304518h
摘要

We have demonstrated that new crystal faces are generated on anatase and rutile TiO2 particles by means of chemical etching in aqueous hydrofluoric acid or hot sulfuric acid. In the treatment with aqueous hydrofluoric acid, the {112} face of anatase particles and the {021} face of rutile particles are newly formed. When treated with hot sulfuric acid, anatase particles exposed the {122} face and rutile particles exposed the {001}, {010}, {021} and {121} faces. In both cases, anatase particles are etched at a higher rate than rutile particles. The etched particles are expected to show photocatalytic properties unique to the crystal faces. For example, the {112} face of anatase particles is demonstrated to be active in the oxidation of Pb2+ ions.
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