Active sites and structure regulation of non-radical pathways in N-doped graphene-activated persulfate

过硫酸盐 催化作用 石墨烯 化学 兴奋剂 光化学 材料科学 纳米技术 有机化学 光电子学
作者
Xue Zhang,Baowei Zhao,Nan Wu
出处
期刊:Catalysis Communications [Elsevier]
卷期号:: 106910-106910
标识
DOI:10.1016/j.catcom.2024.106910
摘要

In this study, we investigated the non-free radical pathways and active sites of N-doped graphene (N-rGO)-activated peroxymonosulfate (PMS). All as-prepared N-rGO samples could activate PMS and develop non-radical pathways. Graphitic-N sites were the major sites for N-rGO activation of PMS, and their content was positively related to the intensity of non-radical pathways. For sulfamethoxazole (SMX), the degradation rate by NH3-rGO-10/PMS and non-radicals within 10 min was 93.66 and 75.34% respectively. In the presence of different anions and different concentrations of humic acid, the removal rate of SMX was still more than 90%.
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