Review of the fundamentals of thin-film growth

薄膜 材料科学 聚结(物理) 电介质 成核 光学 沉积(地质) 光电子学 光学涂层 纳米技术 化学 生物 天体生物学 物理 古生物学 有机化学 沉积物
作者
Norbert Kaiser
出处
期刊:Applied optics [The Optical Society]
卷期号:41 (16): 3053-3053 被引量:351
标识
DOI:10.1364/ao.41.003053
摘要

The properties of a thin film of a given material depend on the film's real structure. The real structure is defined as the link between a thin film's deposition parameters and its properties. To facilitate engineering the properties of a thin film by manipulating its real structure, thin-film formation is reviewed as a process starting with nucleation followed by coalescence and subsequent thickness growth, all stages of which can be influenced by deposition parameters. The focus in this review is on dielectric and metallic films and their optical properties. In contrast to optoelectronics all these film growth possibilities for the engineering of novel optical films with extraordinary properties are just beginning to be used.
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