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作者
O. O. Versolato,Ruben Schupp,L. Behnke,Yahia Mostafa,Zoi Bouza,Adam Lassise,Muharrem Bayraktar,J. Sheil,R. Hoekstra,W. Ubachs
标识
DOI:10.1364/euvxray.2022.eth5a.7
摘要
Extreme ultraviolet (EUV) nanolithography relies on CO 2 -lasers to drive EUV-emitting tin plasma at 10.6-micrometer wavelength. We will present research using instead solid-state laser light, at 2-micrometer wavelength, to efficiently drive plasma from carefully preshaped targets.
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