Diffusion of Li, Na, and K in fluorinated Ti dioxide films: Applicability of the Anderson–Stuart model

插层(化学) 扩散 离子 化学 电化学 无机化学 分析化学(期刊) 热力学 物理化学 电极 物理 有机化学 色谱法
作者
M. Stro mme Mattsson,Gunnar A. Niklasson,C.G. Granqvist
出处
期刊:Journal of Applied Physics [American Institute of Physics]
卷期号:81 (5): 2167-2172 被引量:13
标识
DOI:10.1063/1.364232
摘要

Fluorinated Ti dioxide films were made by reactive sputtering. The mobility of Li, Na, and K in this host was studied by electrochemical techniques. Chronopotentiometry suggested that the cations occupy one type of site for cation/Ti ratios below 0.5, and that other sites are populated at higher ratios. Li and Na intercalation appeared to progress without major structural changes, whereas the intercalation of the larger K ions caused structural rearrangement. Impedance spectra were interpreted within a Randles circuit with a finite length Warburg element from which chemical diffusion coefficients were obtained at different intercalation levels and temperatures. The ion diffusion could be understood in detail from the classical Anderson–Stuart model [O. L. Anderson and D. A. Stuart, J. Am. Ceram. Soc. 37, 573 (1954)] as long as the structure remained unchanged, i.e., for the Li and Na intercalation, whereas K intercalation, expectedly, could not be reconciled with this model.
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