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Difference between C4F8 and C5F8 plasmas in surface reaction processes for selective etching of SiO2 over Si3N4

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作者
Hideki Motomura,Shinichi Imai,Kunihide Tachibana
出处
期刊：Thin Solid Films [Elsevier BV]
日期：2000-10-01 卷期号：374 (2): 243-248 被引量：23
标识
DOI：10.1016/s0040-6090(00)01157-3
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