标题 |
[高分] Directed self-assembly enhanced EUV multi-patterning for low variability metal pitch scaling
定向自组装增强的低可变性金属间距EUV多图案化
相关领域
极紫外光刻
缩放比例
多重图案
材料科学
光电子学
纳米技术
抵抗
几何学
数学
图层(电子)
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DOI | |
其它 |
期刊: 作者:G. Singh; Nityan Nair; Florian Gstrein; Richard E. Schenker 出版日期:2024-04-10 |
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