Contact etch in the LAM 4520XL using standard CF/sub 4//CHF/sub 3/ chemistry

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标题	Contact etch in the LAM 4520XL using standard CF/sub 4//CHF/sub 3/ chemistry 使用标准CF/sub 4//CHF/sub 3/chemistry在LAM 4520XL中进行接触蚀刻相关领域 GSM演进的增强数据速率滞后薄脆饼电极数学计算机科学统计材料科学化学电信光电子学物理化学计算机网络
网址	https://doi.org/10.1109/asmc.1996.557994
DOI	10.1109/asmc.1996.557994 doi
其它	期刊：作者：Thuy Tran-Quinn; Stephen T. Johnston; Robert G. Lindquist 出版日期：2002-12-24
求助人	小兄弟在 2023-11-09 13:35:04 发布自浙江，悬赏 10 积分
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