Relaxation Induced by Imprint Phenomena in Low-Temperature (400 °C) Processed Hf0.5Zr0.5O2-Based Metal-Ferroelectric-Metal Capacitors

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标题	Relaxation Induced by Imprint Phenomena in Low-Temperature (400 °C) Processed Hf0.5Zr0.5O2-Based Metal-Ferroelectric-Metal Capacitors 相关领域电容器材料科学铁电性极化（电化学）放松（心理学）电压光电子学分析化学（期刊）电介质电气工程化学心理学色谱法社会心理学工程类物理化学
网址	https://doi.org/10.1021/acsaelm.1c01241
DOI	10.1021/acsaelm.1c01241 doi
其它	期刊：ACS applied electronic materials 作者：Jaidah Mohan; Yong Chan Jung; Heber Hernandez-Arriaga; Jung Dae Kim; Takashi Onaya; et al 出版日期：2022-02-14
求助人	褚海在 2023-01-12 20:55:55 发布自广东，悬赏 10 积分
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