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标题
Improving Liquid Film Thickness Uniformity of Semiconductor Etching Equipment Using Flow Field Visualization and CFD Simulation
利用流场可视化和CFD模拟改善半导体刻蚀设备液膜厚度均匀性
相关领域
喷嘴 薄脆饼 蚀刻（微加工） 材料科学 流利 计算流体力学 机械工程 流动可视化 体积流量 工程制图 光电子学 工程类 流量（数学） 机械 纳米技术 航空航天工程 物理 图层（电子）
网址
https://doi.org/10.1109/tsm.2022.3147190
DOI
10.1109/tsm.2022.3147190 doi
其它 期刊：IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing
作者：Tee Lin; Ming-Hsuan Hu; Omid Ali Zargar; Wei-Hao Lai; Graham Leggett
出版日期：2022-01-29
求助人
机智的笑槐 在 2025-01-08 11:46:27 发布自吉林，悬赏 10 积分
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