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Selective plasma etching of silicon-containing high chi block copolymer for directed self-assembly (DSA) application
用于定向自组装(DSA)应用的含硅高chi嵌段共聚物的选择性等离子体刻蚀
相关领域
共聚物
材料科学
硅
平版印刷术
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蚀刻(微加工)
甲基丙烯酸甲酯
苯乙烯
选择性
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期刊:Journal of Vacuum Science & Technology B Nanotechnology and Microelectronics Materials Processing Measurement and Phenomena 作者:Maria Gabriela Gusmão Cacho; K. Benotmane; Patricia Pimenta‐Barros; Charlotte Bouet; Guido Rademaker; et al 出版日期:2021-06-22 |
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