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 Effect of electrode spacing on the density distributions of electrons, ions, and metastable and radical molecules in SiH4/NH3/N2/He capacitively coupled plasmas 电极间距对SiH4/NH3/N2/He电容耦合等离子体中电子、离子、亚稳态分子和自由基分子密度分布的影响
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期刊：Journal of Applied Physics 作者：Ho Jun Kim; Won‐Kyun Yang; Junghoon Joo 出版日期：2015-07-28 |
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