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Effect of argon addition on CH4-H2 microwave plasma: Self-consistent simulation and nanodiamond coating deposition
氩气对CH4-H2微波等离子体的影响:自洽模拟与纳米金刚石涂层沉积
相关领域
纳米金刚石
材料科学
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期刊:Surface and Coatings Technology 作者:Zhiliang Yang; Zhijian Guo; Kang An; Yuchen Liu; Yunkai Wang; et al 出版日期:2024-07-01 |
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