标题 |
A review on recent advances of chemical vapor deposition technique for monolayer transition metal dichalcogenides (MX2: Mo, W; S, Se, Te)
单层过渡金属二硫族化物(MX2:Mo,W;S,Se,Te)化学气相沉积技术研究进展
相关领域
纳米棒
材料科学
氮氧化物
选择性
热液循环
润湿
再现性
工作温度
纳米结构
化学工程
原位
纳米技术
复合材料
催化作用
色谱法
燃烧
有机化学
工程类
物理
化学
热力学
|
网址 | |
DOI |
提醒:求助人提供的doi与AI识别不一致
10.1016/j.mssp.2022.106522
Doi
|
求助人 | |
下载 | 求助已完成,仅限求助人下载。 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|