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 Exploring crystal recovery and dopant activation in coated laser annealing on ion implanted 4H–SiC epitaxial layers 离子注入4H-SiC外延层涂层激光退火中晶体恢复和掺杂激活的研究
相关领域
材料科学
掺杂剂
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分析化学（期刊）
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期刊：Materials Science in Semiconductor Processing 作者：Cristiano Calabretta; A. Pecora; Marta Agati; A. Muoio; V. Scuderi; et al 出版日期：2024-05-01 |
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