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 Accurately Computed Dimerization Trends of ALD Precursors and Their Impact on Surface Reactivity in Area-Selective Atomic Layer Deposition 精确计算ALD前驱体的二聚化趋势及其对区域选择性原子层沉积表面反应性的影响
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期刊：Chemistry of Materials 作者：Patrick Maué; Émilie Chantraine; Fabian Pieck; Ralf Tonner 出版日期：2025-01-17 |
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