Preparation and Properties of SiO2 Films from SiH4 ‐ CO 2 ‐ H 2

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标题	Preparation and Properties of SiO2 Films from SiH4 ‐ CO 2 ‐ H 2 SiH4-CO2-H2制备SiO2薄膜及其性能研究相关领域活化能化学气相沉积分析化学（期刊）氢硅大气温度范围电介质化学氧化物材料科学物理化学纳米技术有机化学气象学物理光电子学色谱法
网址	https://doi.org/10.1149/1.2132741
DOI	10.1149/1.2132741 doi
其它	期刊：Journal of The Electrochemical Society 作者：A. K. Gaind; Gerhard Ackermann; V. J. Lucarini; R. L. Bratter 出版日期：1976-01-01
求助人	AHUAMM 在 2024-12-25 13:17:45 发布自北京，悬赏 10 积分
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