Recent progress of inorganic photoresists for next-generation EUV lithography

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标题	Recent progress of inorganic photoresists for next-generation EUV lithography 下一代EUV光刻用无机光刻胶的最新进展相关领域极紫外光刻材料科学平版印刷术抵抗纳米技术下一代光刻多重图案工程物理光电子学电子束光刻工程类图层（电子）
网址	http://pubs.rsc.org/en/content/articlepdf/2024/TC/D4TC02671C
DOI	10.1039/d4tc02671c doi
其它	期刊：Journal of Materials Chemistry C 作者：Yeo Kyung Kang; Sun Jin Lee; Sunghun Eom; Byeong Geun Kim; Chan-Cuk Hwang; Myung-Gil Kim 出版日期：2024-09-16
求助人	ChenxiDai 在 2024-12-04 17:00:59 发布自江苏，悬赏 10 积分
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