标题 |
Synergistic effect of double Schottky potential well and oxygen vacancy for enhanced plasmonic photocatalytic U(VI) reduction
双肖特基势阱与氧空位协同作用增强等离子体光催化还原铀(VI)
相关领域
光催化
肖特基势垒
空位缺陷
材料科学
表面等离子共振
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吸附
光化学
化学
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有机化学
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期刊:Journal of Hazardous Materials 作者:Xin Liu; Rui-Xiang Bi; Zhihai Peng; Lei Lan; Cheng-Rong Zhang; et al 出版日期:2023-08-01 |
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