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 Role of SiCl4 addition in CH3F/O2 based chemistry for Si3N4 etching selectively to SiO2, SiCO, and Si 相关领域
蚀刻（微加工）
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硅
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films 作者：F. Boulard; Valentin Bacquié; Aurélien Tavernier; N. Possémé 出版日期：2023-03-22 |
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