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标题
Postexposure Delay Effect on Linewidth Variation in Base Added Chemically Amplified Resist
曝光后延迟对添加碱基的化学放大抗蚀剂线宽变化的影响
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激光线宽 抵抗 材料科学 平版印刷术 光刻 化学 活化能 紫外线 光刻胶 光电子学 光学 激光器 纳米技术 有机化学 物理 图层（电子）
网址
https://doi.org/10.1149/1.1393981
DOI
10.1149/1.1393981 doi
其它 期刊：Journal of The Electrochemical Society
作者：Chin-Yu Ku; Jia‐Min Shieh; Tsann-Bim Chiou; Hwang-Kuen Lin; Tan Fu Lei
出版日期：2000-01-01
求助人
虚心盼夏 在 2025-02-06 17:15:30 发布自上海，悬赏 10 积分
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