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Edge Doping in Graphene Devices on SiO2 Substrates
SiO2基片上石墨烯器件中的边缘掺杂
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网址
https://doi.org/10.1134/s1063782619160292
DOI
10.1134/s1063782619160292 doi
其它 期刊：Semiconductors
作者：G. Yu. Vasilyeva; Д. Смирнов; Yu. B. Vasilyev; A. A. Greshnov; R. J. Haug
出版日期：2019-12-01
求助人
leo_twli 在 2024-11-19 14:17:34 发布自辽宁，悬赏 10 积分
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