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Hydrogen desorption and diffusion in PECVD silicon nitride. Application to passivation of CMOS active pixel sensors
PECVD氮化硅中氢的解吸和扩散。在CMOS有源像素传感器钝化中的应用
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期刊:Microelectronic Engineering 作者:Daniel Benoit; J.L. Regolini; P. Morin 出版日期:2007-05-31 |
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