Novel nonionic photoacid generator releasing strong acid for chemically amplified resists

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标题	Novel nonionic photoacid generator releasing strong acid for chemically amplified resists 用于化学放大抗蚀剂的释放强酸的新型非离子光酸发生器相关领域溶解度材料科学热稳定性离子键合胺气处理吸收（声学）辐照化学工程离子液体抵抗化学稳定性光化学化学纳米技术有机化学离子物理图层（电子）核物理学工程类复合材料催化作用
网址	https://doi.org/10.1117/12.531803
DOI	10.1117/12.531803 doi
其它	期刊：Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE 作者：Hitoshi Yamato; Toshikage Asakura; Tobias Hintermann; Masaki Ohwa 出版日期：2004-05-14
求助人	虚心盼夏在 2025-01-13 14:52:32 发布自上海，悬赏 20 积分
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