标题 |
Novel photoacid generators for chemically amplified resists
用于化学放大抗蚀剂的新型光产酸剂
相关领域
热稳定性
溶解度
抵抗
材料科学
磺酸
辛烷值
溶解
化学
有机化学
高分子化学
图层(电子)
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DOI | |
其它 |
期刊:Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE 作者:Hitoshi Yamato; Toshikage Asakura; Akira Matsumoto; Masaki Ohwa 出版日期:2002-07-15 |
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